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4NPI課題裝置改造

4NPI課題裝置改造是一次創新性的升級，它將助力企業在快速發展的市場中把握機遇，提升新產品的研發速度和質量。隨著技術的不斷進步，我們有理由相信，這種改造將為企業帶來更大的價值。

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更新日期
2025-07-22

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半導體材料產業化裝置

半導體材料產業化裝置涉及到半導體制造的全過程，包括從原材料的提取到最終的封裝測試。以下是一些關鍵的產業化裝置和制造工藝： 1. **晶圓加工裝置**： - 晶圓是半導體制造的基礎，通常由高純度的單晶硅制成。晶圓加工包括鑄錠和錠切割，將高純硅熔化成液體，再凝固成單晶固體形式，稱為“錠”，然后切割成一定厚度的薄片。 2. **氧化裝置**： - 氧化過程在晶圓表面形成一層薄的二氧化

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更新日期
2024-12-17

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連續式濕式氧化實驗平臺

連續式濕式氧化實驗平臺，具有耐壓、耐腐蝕、耐一定溫度的特性。攪拌方式為環形永磁驅動靜密封，攪拌力強，無泄露。適用于石油，化工，制藥，染料，軍工，礦冶，食品等行業的科研院所，和大專院校的科研領域，尤其適用于大專院校對學生進行示范性試驗。

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更新日期
2024-06-21

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全自動氫化儀

全自動氫化儀，設計溫度500度設計壓力20MPa,進料系統配置稱重模塊閉環控制優化保證HPLC高壓進料不準問題，系統整體容積＜100ml，安全加氫，出料配置1ml定量環采集新鮮樣，氣液分離體積模塊＜10ml設計配合自動排液閥實現無壓力波動高壓自動出料，系統壓力自動控制整個系統配置順控工作流軟件，實現工藝流程全自動24h無人值守

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2024-06-21

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酯化聚縮反應釜

酯化聚縮反應釜，設計溫度300度，設計壓力真空到1MPa,配置氣相冷凝模塊除水除醇，下游安裝可視化收集罐，自動真空調節模塊，釜體采用電動升降系統，釜底多股產物出料模塊，并配置熱循環工質系統，系統采用PLC＋觸摸屏控制方案

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2024-06-21

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三元共沉淀反應釜

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2024-06-21

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